도입사례

ZEISS-SIGMA 300·MB1000_P53 출장 결과 보고서(필리핀 마닐라 Tier-1 Semiconductor 분석실 2층). 출장 2017-11-07~11, 측정 2017-11-08, 작성 2017-11-13, 담당 최형문 과장(대일시스템). 제목 직후 설치 맥락 사진과 VC-Class 요약, MB1000 내부 프로그램 Z·X·Y, 옥타브 밴드 두 구간(바닥–제진대 상부, 제진대 상부–자이스 장비)을 원문 순서대로 게시합니다. 표지 장식 래스터는 공개에서 생략했습니다.

필리핀 마닐라 Tier-1 Semiconductor 분석실 2층 ZEISS SIGMA 300 현장에 대한 MB1000 P53 형식 출장·측정 자료입니다. 출장 2017-11-07~2017-11-11, 측정 2017-11-08, 보고 2017-11-13, 담당 최형문(대일시스템). VC-Class 요약 표, MB1000 내부 프로그램 축별 그래프, 옥타브·가속도 스펙트럼(바닥·제진대 상판·ZEISS 상부)을 게시합니다.

MB1000_P43 리셋업·장비 이전 후 재튜닝을 다루는 한글 중국 출장 워크시트입니다. 대상 ZEISS-SIGMA HD, 우시 퀄컴 현장, 2차 기존 장비 이전설치 및 재튜닝(대일시스템 최형문), 측정일 2017-10-24입니다. DOCX 본문·§2a 스트림 순서를 따릅니다: 표지형 가로 배너 래스터(image1)는 게시 생략, 보고서 제목 직후 VC-Class 그래프(image2), 양식의 VC-Class 요약 표·서술, MB1000 내부 프로그램 Z/X/Y, 옥타브 밴드 Z/X/Y 그래프를 게시합니다.

MB1000 P47 참조·중국 출장 보고서 머리줄의 DVIA-MB1000 워크시트로, 대상 장비 ZEISS-CROSSBEAM 540, 종료 사용자 Qualcomm, 우시 QUALCOMM 1층 연구소입니다. 출장자 최형문(대일시스템), 출장 17.10.21~17.10.25, 측정 2017.10.24, 작성 17.10.26입니다. 개요 문장·측정결과 요약 표·하단 서술은 DOCX 문자 그대로이며, 중앙 제목 장식 래스터(image1)는 게시하지 않았습니다. VC-Class 그림은 제목 직후 DOCX 본문 순서에 맞춰 두었고, MB1000 내부 프로그램·옥타브 밴드(Z/X/Y)는 §2a 단락 순서 매핑(image3~8)으로 게시합니다.

2017년 퀄컴 현장 ZEISS-Crossbeam 540용 워크시트: 설치·측정 2017-10-24, 보고 2017-10-26, 담당 CHOI, HYOUNGMUN(대일시스템). Z·X·Y 전달률(코히어런스 포함) 및 옥타브 밴드 결과를 게시하며, 표제 블록 직후 장식용 그래픽은 공개 페이지에서 생략했습니다.

Qualcomm 현장 ZEISS CROSSBEAM 540에 대한 DVIA-M(MB1000) “Installation Test Data” 양식 자료(보관). 설치·측정 2017-10-24, 보고 2017-10-26, 담당 CHOI, HYOUNGMUN. 게시 이미지: 제목 블록 직후 장비 화면, Z·X·Y 전달률·코히어런스 그래프 및 Z·X·Y 옥타브 밴드 그래프. 원문에 VC 기준 곡선·측정 요약 표는 없음.