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설치 보고서
08-28-2026

RAITH Voyager DVIA-ML1000 설치 보고서

DVIA-M Series
Installation Report
YIMOTECH
Suzhou Dingxin Photoelectric
RAITH
Electron Beam Lithography system
Voyager
DVIA-ML1000
260422R1-2
Suzhou

개요

Suzhou에 DVIA-ML1000을 설치한 후 튜닝 및 진동 측정을 수행하였습니다.

진동 측정은 장비가 Idle 상태일 때 진행하였습니다.

데이터는 Autospectrum 형식으로 표시하였으며, 진동 수준에 대한 참고자료를 함께 제공합니다.

제진대 정보

모델: DVIA-ML1000

시리얼 넘버: 260422R1-2

엔지니어

김태헌 · 대일시스템

튜닝 날짜

2026.08.28

End User

Suzhou Dingxin Photoelectric

튜닝 횟수

2nd

설치 장소

Suzhou

고객사 장비

제조사: RAITH

장비: Electron Beam Lithography system

모델: Voyager

진동 스펙

Horizontal

주파수 [Hz]허용치 [µm/s RMS]
10.8
160.8
161
1001

Vertical

주파수 [Hz]허용치 [µm/s RMS]
10.8
160.8
161
1001

장비 상태

Idle

Tuning Request

결론

진동 측정은 설치 바닥과 DVIA-ML1000 능동형 제진대 상면의 두 위치에서 수행하였으며, 9절에 정의된 기준에 따라 평가하였습니다.

바닥에서는 세 축(Vertical, Left to Right, Front to Back) 모두 기준을 초과하여, 설치 장소의 주변 진동 환경이 장비의 운용 요구 조건을 충족하기에 적합하지 않은 것으로 나타났습니다.

설치 구성에 맞게 제어 파라미터를 최적화하기 위해 2차 튜닝을 수행하였습니다. 조정 후 제진대에서 측정한 세 축 모두 기준을 만족하여, DVIA-ML1000이 장비 환경을 기준에 부합시키기에 충분한 감쇠 성능을 제공함을 확인하였습니다.

다만 제진대 상면에서 9–10 Hz 대역의 국부적인 응답이 관찰되었습니다. 주파수 특성과 축별 거동으로 볼 때, 이 응답은 제진대 자체가 아니라 장비와 인접 구조물 또는 연결된 유틸리티 간의 기계적 간섭에서 비롯된 것으로 추정됩니다.

측정 레벨이 기준 이내이며 장비 운용에 영향은 없을 것으로 예상되나, 잠재적인 전달 경로를 제거하기 위해 연결 라인의 배선 경로와 제진대 주변의 물리적 접촉 지점을 점검할 것을 권장합니다.

측정 데이터 요약

측정 위치진동 스펙측정 축측정 결과
바닥DVIA-ML1000
1. 바닥
2. DVIA-ML1000
9절 참조Vertical✗ FAIL✓ PASS
Left to Right✗ FAIL✓ PASS
Front to Back✗ FAIL✓ PASS

UI 프로그램으로 취득한 측정 데이터

Vertical

Vertical — Autospectrum

Left to Right

Left to Right — Autospectrum

Front to Back

Front to Back — Autospectrum

설치 사진

고객사 장비

참고자료

아래 표는 IEST-RP-CC012.2 기준의 진동 수준 분류입니다.

기준 곡선설명진폭¹
μm/s (μin/s)
세부 크기²
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 인지되는 진동. 작업장 및 비민감 영역에 적합합니다.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 영역에 적합합니다.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 영역에 적합합니다. 일반적으로 컴퓨터 장비, 병원 회복실, 반도체 프로브 테스트 장비 및 40배 미만 현미경에 적합합니다.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수술실, 100배 현미경 및 기타 저감도 장비에 적합합니다.100 (4,000)25
VC-A대부분의 경우 400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울, 근접 및 투영 정렬기 등에 적합합니다.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합합니다.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 세부 크기까지의 리소그래피 및 검사 장비(중간 감도 전자 현미경 포함)에 적합한 표준입니다. TFT-LCD 스테퍼/스캐너 공정.12.5 (500)1-3
VC-D대부분의 경우 많은 전자 현미경(SEM 및 TEM) 및 E-Beam 시스템을 포함한 까다로운 장비에 적합합니다.6.25 (250)0.1-0.3
VC-E달성하기 어려운 기준입니다. 나노미터 스케일에서 작동하는 장거리, 레이저 기반, 소형 타겟 시스템, E-Beam 리소그래피 시스템 및 특별한 동적 안정성이 필요한 기타 시스템을 포함한 가장 까다로운 민감 시스템에 적합한 것으로 가정합니다.3.12 (125)<0.1
VC-F매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.1.56 (62.5)N/A
VC-G매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.0.78 (31.3)N/A

¹ 8–80 Hz(VC-A, VC-B) 또는 1–80 Hz(VC-C~VC-G) 주파수 구간의 1/3 옥타브 대역에서 측정.

² 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조 시 폭, 의료·제약 연구 시 입자(세포) 크기 등을 나타내며, 프로브 기술·AFM·나노기술 관련 이미징에는 해당하지 않습니다.

이 표의 정보는 참고용으로 제시됩니다. 대부분의 경우 장비 및 공정의 적용과 진동 요구 사항에 정통한 전문가의 조언을 구할 것을 권장합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일08-28-2026
태그
DVIA-M Series
Installation Report
YIMOTECH
Suzhou Dingxin Photoelectric
RAITH
Electron Beam Lithography system
Voyager
DVIA-ML1000
260422R1-2
Suzhou