설치 보고서

DVIA-M Series

05-24-2016

ZEISS EVO 18 SEM DVIA-MB1000 Installation

Installation Report

DVIA-M Series

ZEISS

개요

ZEISS EVO 18 SEM DVIA-MB1000 설치

1. 측정 세부사항

측정일: 2016년 5월 24일

측정 장비:

LAN-XI 데이터 수집 하드웨어 – Brüel & Kjær 3050-A-040 (일련번호: 3050-111438)

데이터 분석 소프트웨어 – Brüel & Kjær PULSE LAB SHOP 14

센서 – PCB 가속도계 모델: 393B05 (일련번호: 48995, 40626)

측정 위치: 1층

측정 설정:

대역폭: 0 – 100 Hz

라인: 400

윈도우: Hanning

평균: 고속 푸리에 변환 스펙트럼 평균

진폭 단위: m/s²

스펙트럼 단위: RMS

2. 장비 정보

제조사: ZEISS

모델: EVO 18 SEM

바닥 진동 사양: 제조사 지정 허용 진동값은 30 Hz까지 6 μm/s RMS 미만, 30 Hz 이상 12 μm/s RMS 미만.

별도로 명시하지 않는 한, 요구사항은 세 개의 직교축 및 1Hz~80Hz 사이의 1/3 옥타브 범위로 가정해야 합니다.

3. 진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-MB1000

사양	값
플랫폼 치수	1140 x 910 x 224 mm
적재 하중	500 - 1700 kg
액추에이터	전자기 액추에이터
최대 액추에이터 힘	수직: 40N, 수평: 20 N
자유도	6자유도
액티브 진동 제어 범위	0.5 - 100 Hz
2 Hz 제진률	≥90%
10 Hz 제진률	≥99%
입력 전압	AC100 - 240V / 50 - 60 Hz / 1A
전력 소비	최대 110W, 정상 운전 시 <50 W
운전 온도	5 - 50 °C
운전 습도	20 - 90%
필요 공기 압력	≥ 0.5 MPa (5 bar)

4. 설치 사진

5. 요약

주파수 범위	바닥 진동 사양	바닥 진동	액티브 진동 제어 위
1 - 30 Hz (Z축)	6 μm/s RMS	실패	통과
1 - 30 Hz (X축)	6 μm/s RMS	실패	통과
1 - 30 Hz (Y축)	6 μm/s RMS	실패	통과
30 Hz 이상 (Z축)	12 μm/s RMS	통과	통과
30 Hz 이상 (X축)	12 μm/s RMS	통과	통과
30 Hz 이상 (Y축)	12 μm/s RMS	통과	통과

6. 결과

Z축(수직)

X축(좌우)

Y축(전후)

7. 결과 – 제진 이미징 효과

배율: 110K

8. 참조

일반 진동 기준

Criterion Curve	Description	Amplitude μm/s (µin/s)	Detail Size μm
Workshop (ISO)	Distinctly perceptible vibration. Appropriate to workshops and non-sensitive areas.	800 (32,000)	N/A
Office (ISO)	Perceptible vibration. Appropriate to offices and non-sensitive areas.	400 (16,000)	N/A
Residential Area (ISO)	Barely perceptible vibration. Appropriate to sleep areas in most instances.	200 (8,000)	75
Operating Theatre (ISO)	Vibration not perceptible. Suitable for surgical suites, microscopes to 100x.	100 (4,000)	25
VC-A	Adequate for optical microscopes to 400x, microbalances, optical balances.	50 (2,000)	8
VC-B	Appropriate for inspection and lithography equipment to 3μm line widths.	25 (1,000)	3
VC-C	Appropriate for optical microscopes to 1000x, lithography equipment to 1μm.	12.5 (500)	1 - 3
VC-D	Suitable for demanding equipment including electron microscopes (SEMs/TEMs).	6.25 (250)	0.1 - 0.3
VC-E	For the most demanding systems including E-Beam lithography at nanometer scales.	3.12 (125)	< 0.1
VC-F	For extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.	1.56 (62.5)	N/A
VC-G	For extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.	0.78 (31.25)	N/A

*Notes:*

1. As measured in one-third octave bands over 8-80 Hz (VC-A/B) or 1-80 Hz (VC-C through VC-G).

2. Detail size refers to width in microelectronics fabrication or particle size in medical research.

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시리즈DVIA-M Series

작성일05-24-2016

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Installation Report

DVIA-M Series

ZEISS

ZEISS EVO 18 SEM DVIA-MB1000 Installation

개요

목차

1. 측정 세부사항

2. 장비 정보

3. 진동 제어 시스템 정보

4. 설치 사진

5. 요약

6. 결과

Z축(수직)

X축(좌우)

Y축(전후)

7. 결과 – 제진 이미징 효과

8. 참조

일반 진동 기준

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