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설치 보고서
DVIA-M Series
11-29-2023

RAITH EBPG5150 E-Beam Lithography System DVIA-MB3000 Installation Report

DVIA-M Series
Installation Report
RAITH

Nanotech West Lab 1381 Kinnear Road Columbus, OH 43212

결과 요약

결과 요약은 다음과 같습니다:

DVIA-MB3000 진동 사양 충족

본 보고서는 오하이오주 콜럼버스, 1381 Kinnear Road, Nanotech West Lab 클린룸에 위치한 Raith EPBG5150용 진동 제어 시스템 MB3000 설치에 대한 상세 내용을 제공합니다. Ohio State University는 VEC에 DVIA-MB3000 설치 및 완료 작업 보고서 작성을 의뢰했습니다.

제품 상세

납품 부품시리얼 넘버소프트웨어
MB3000221130R3현장 맞춤 튜닝

작업 요약

시스템 설치 방법

- 현미경 아래에 모듈형 플랫폼 배치
- 모듈형 플랫폼을 0.5mm 이내로 수평 조정

시스템 테스트 방법

- 현장 맞춤 튜닝 생성 및 업로드
- 성능 검증을 위한 진동 데이터 수집

시스템 최종 상태

- 위치에 배치 및 전원 켜짐
- Active 제어 활성화됨

설치자 노트

장기 사용을 위해 에어라인을 질소에서 압축 공기로 변경해야 합니다.

이 장비는 "Auto Active"가 활성화되어 있어 정전 후 전원이 복구되어도 시스템에 별도 조치가 필요하지 않습니다.

절차

진동

VEC는 3개 방향에서 진동 측정을 수행했습니다. 가속도 측정은 Hz 대역폭에서 um/s 단위로 수행되었습니다. Hz 대역폭의 가속도 스펙트럼이 기록되었습니다.

설정

진동
대역폭Hz
지속 시간
공학 단위um/s

사양

VEC는 본 프로젝트에 다음 사양을 사용했습니다.

사양 요약

장비사양
Raith EPBG515진동
모든 방향
9 um/s 1Hz - 6Hz
9-20 um/s 6Hz - 30Hz
20-10 um/s 30Hz - 80Hz
10-100 um/s 80Hz - 800Hz

상세 사양

그림 1: 상세 사양

결과

결과 요약

결과 요약은 다음과 같습니다:
MB3000 ON 통과 진동 사양 충족

상세 결과

유형위치방향사양측정값결과
진동바닥전후9 um/s 1Hz - 6Hz2 um/s @ 4Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz7 um/s @ 18Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz1 um/s @ 58Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
좌우9 um/s 1Hz - 6Hz3 um/s @ 6Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz5 um/s @ 6Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz2 um/s @ 58Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
수직9 um/s 1Hz - 6Hz4 um/s @ 6Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz7 um/s @ 18Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz7 um/s @ 58Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
수직 (보행)9 um/s 1Hz - 6Hz22 um/s @ 2Hz실패
9-20 um/s 6Hz - 30Hz29 um/s @ 9Hz실패
20-10 um/s 30Hz - 80Hz8 um/s @ 58Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
MB3000전후9 um/s 1Hz - 6Hz0.717 um/s @ 5Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz0.276 um/s @ 25Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz0.804 um/s @ 45Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
좌우9 um/s 1Hz - 6Hz0.648 um/s @ 5Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz0.390 um/s @ 23Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz0.742 um/s @ 45Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
수직9 um/s 1Hz - 6Hz0.333 um/s @ 6Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz0.602 um/s @ 17Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz2 um/s @ 45Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과
수직 (보행)9 um/s 1Hz - 6Hz2 um/s @ 2Hz통과
9-20 um/s 6Hz - 30Hz0.966 um/s @ 9Hz통과
20-10 um/s 30Hz - 80Hz3 um/s @ 45Hz통과
10-100 um/s 80Hz - 800Hz통과

데이터

그림 2: 바닥 진동 전후

그림 3: MB3000 진동 전후

그림 4: 고주파 진동 전후

그림 5: 전달률 전후

그림 6: 바닥 진동 좌우

그림 7: MB3000 진동 좌우

그림 8: 고주파 진동 좌우

그림 9: 전달률 좌우

그림 10: 바닥 진동 수직

그림 11: MB3000 진동 수직

그림 12: 고주파 진동 수직

그림 13: 전달률 수직

그림 14: 바닥 진동 수직 (보행)

그림 15: MB3000 진동 수직 (보행)

그림 16: 전달률 수직 (보행)

Reference

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자 현미경(SEM/TEM) 등 고정밀 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 최고 수준 시스템에 적합.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일11-29-2023
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RAITH