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설치 보고서
DVIA-ULF Series
01-21-2026

YIMO ZEISS EVO 10 DVIA-ULF1000 (251104R1) Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
YIMO
ZEISS
EVO 10
SEM
Huasheng Lianying
DVIA-ULF1000
251104R1

목차

개요

DVIA-ULF1000 액티브 진동 차단 플랫폼이 적절히 설치되어 의도한 대로 작동하고 있습니다.

제진 시스템 정보

모델: DVIA-ULF1000

시리얼 번호: 251104R1

엔지니어

Chaewon Lee DAEIL SYSTEMS

튜닝 일자

2026년 1월 21일

최종 사용자

Huasheng Lianying Vibration Damping Platform

튜닝 시도 횟수

1st

설치 위치

N/A

장비 정보

Manufacturer: ZEISS

Equipment: SEM

Model: EVO 10

진동 사양

up to 30 Hz : VC-D

above 30 Hz : VC-C

장비 상태

The equipment is turned on/IDLE

튜닝 요청

N/A

측정 요약

측정 지점상태축측정 데이터
바닥DVIA-ULF1000
1.Floor2.DVIA-ULF1000YF-1801 is turned on/IDLEVerticalVC-D@ 6.3 HzVC-G@ 6.3 Hz
Left to RightVC-E@ 1.25 HzVC-G@ 1.25 Hz
Front to BackVC-D@ 5 HzVC-G@ 5 Hz

UI 프로그램을 통해 얻은 측정 데이터

Vertical VC Curves

Vertical Autospectrum

Vertical Transmissibility

Left to Right VC curves

Left to Right Autospectrum

Left to Right Transmissibility

Front to Back VC Curves

Front to Back Autospectrum

Front to Back Transmissibility

장비 사진

참조

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)		세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배율 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미량 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C부터 VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정됩니다.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일01-21-2026
태그
DVIA-ULF Series
Installation Report
YIMO
ZEISS
EVO 10
SEM
Huasheng Lianying
DVIA-ULF1000
251104R1

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