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설치 보고서
DVIA-M Series
08-24-2022

Hitachi SU8230 DVIA-M1000 Installation Report — Shanghai University / Guangzhou (2022-08-24)

DVIA-M Series
Installation Report
Hitachi
SU8230
DVIA-M1000
DVIA-ML1000
Guangzhou
Shanghai University

목차

대상 장비

HITACHI SU8230

설치 장소

Guangzhou

비고

Good Performance

End User

Shanghai University

오퍼레이터 및 일정

Operator: Lee, Young Ha

Date of setup: 22.08.24

Date of reporting: 22.08.25

Date of business trip : 17.12.27~17.12.29

개요

The DVIA-M1000 active vibration isolation platform is appropriately installed and functioning as intended.

Measurement date: 2022.08.24 (Wednesday),

Operator: DAEIL SYSTEMS, Youngha Lee

Place of measurement: Guangzhou

Equipment Model: HITACHI SU8230

진동 제어 시스템

Model: DVIA-M1000 — Serial number: 220118R7

데이터·이미지

MB1000 internal program performance measurement result

Z축

X축

Y축

Reference

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)		세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 체감할 수 있는 진동 수준. 워크숍 및 민감하지 않은 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 수준의 진동. 사무 공간 및 기타 민감하지 않은 환경에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 느껴지지 않는 수준의 진동. 대부분의 수면 공간에 적절.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 감지되지 않는 수준. 외과 수술실, 100배율 이하 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미세 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일08-24-2022
태그
DVIA-M Series
Installation Report
Hitachi
SU8230
DVIA-M1000
DVIA-ML1000
Guangzhou
Shanghai University

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