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설치 보고서
DVIA-ULF Series
08-05-2026

YIMOTECH ZEISS Sigma 360 FE-SEM DVIA-ULFB700 Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
YIMOTECH
Hubei University of Technology
ZEISS
Sigma 360
FE-SEM
DVIA-ULFB700
260203R2
Wuhan

개요

중국 우한(Wuhan) 현장에 DVIA-ULFB700을 설치한 뒤 튜닝과 진동 측정을 수행했습니다.

진동 측정은 장비를 Turned off 상태로 두고 진행했습니다.

측정 데이터는 VC Curve 형식으로 표현했으며, 진동 레벨 판단에 필요한 참고 자료를 함께 수록했습니다.

제진대

모델: DVIA-ULFB700

시리얼 넘버: 260203R2

엔지니어

Taehun KIM · 대일시스템

튜닝 날짜

2026.08.04

End User

Hubei University of Technology

튜닝 횟수

1st

설치 장소

Wuhan

고객사 장비

제조사: ZEISS

장비명: FE-SEM

모델: Sigma 360

진동 스펙

Horizontal

Frequency [Hz]Allowable [mm/s² RMS]
10.04
100.04
100.17
200.17
200.3
700.3
702
1002

Vertical

Frequency [Hz]Allowable [mm/s² RMS]
10.03
80.03
80.15
450.15
452
1002

장비 상태

Turned off

Tuning Request

결론

DVIA-ULFB700(S/N 260203R2)의 튜닝을 2026.08.04에 진행하여 공압 설정과 각 축(Vertical, Left to Right, Front to Back)의 제어 게인을 조정했습니다. 장비를 Turned off 상태로 두고 진동을 측정한 결과, 세 축 모두에서 ZEISS가 Sigma 360 FE-SEM에 요구하는 진동 스펙을 만족했습니다. 이로써 DVIA-ULFB700이 설치 장비에 요구되는 제진 성능을 제공함을 확인했습니다.

측정 데이터 요약

Turned off

Measurement PointVibrationSpecificationsAxisResult
FloorDVIA-ULFB700
1. Floor
2. DVIA-ULFB700
See Section 9VerticalPASSPASS
Left to RightPASSPASS
Front to BackPASSPASS

UI 프로그램 측정 데이터

Vertical Autospectrum

Left to Right Autospectrum

Front to Back Autospectrum

설치 사진

참고자료

아래 표는 IEST-RP-CC012.2 기준의 진동 수준 분류입니다.

기준 곡선설명진폭 (μm/s) (μin/s)세부 크기 (μm)
Workshop (ISO)뚜렷하게 인지되는 진동. 작업장 및 비민감 영역에 적합합니다.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 영역에 적합합니다.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 영역에 적합합니다. 일반적으로 컴퓨터 장비, 병원 회복실, 반도체 프로브 테스트 장비 및 40배 미만 현미경에 적합합니다.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수술실, 100배 현미경 및 기타 저감도 장비에 적합합니다.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로밸런스, 광학 밸런스, 근접·투영 정렬기 등에 대부분 적합합니다.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합합니다.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 세부 크기까지의 리소그래피·검사 장비(중간 감도 전자현미경 포함), TFT-LCD 스테퍼/스캐너 공정에 적합한 표준입니다.12.5 (500)1-3
VC-D다수의 전자현미경(SEM/TEM) 및 E-Beam 시스템 등 까다로운 장비에 대부분 적합합니다.6.25 (250)0.1-0.3
VC-E달성하기 까다로운 기준. 장경로·레이저 기반·소형 타겟 시스템, 나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 민감 시스템에 적합한 것으로 가정합니다.3.12 (125)<0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간에 적합. 대부분의 경우(특히 클린룸) 달성이 어려움. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장됩니다.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간에 적합. 대부분의 경우(특히 클린룸) 달성이 어려움. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장됩니다.0.78 (31.3)N/A

참고:

1. VC-A 및 VC-B는 8~80Hz, VC-C~VC-G는 1~80Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료·제약 연구에서의 입자(셀) 크기 등을 의미하며, 프로브 기술·AFM·나노기술과 연관된 이미징에 관한 것입니다.

이 표의 정보는 참고용입니다. 대부분의 경우 해당 장비 및 공정의 응용 분야와 진동 요구 조건을 잘 아는 전문가의 자문을 받을 것을 권장합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일08-05-2026
태그
DVIA-ULF Series
Installation Report
YIMOTECH
Hubei University of Technology
ZEISS
Sigma 360
FE-SEM
DVIA-ULFB700
260203R2
Wuhan