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설치 보고서
DVIA-ULF Series
01-13-2026

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility DSR C Tower 3F Research Lab ZEISS GeminiSEM 460 DVIA-ULF1000 Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
ZEISS

개요

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility DSR C타워 3층 연구실에 설치된 DVIA-ULF1000 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

장비 Turned on/IDLE 상태로 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

제진대

모델: DVIA-ULF1000

시리얼 넘버: 251112R4

엔지니어

대일시스템 필드엔지니어 이채원

측정 날짜

2026년 01월 08일

설치 장소

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility DSR C타워 3층 연구실

최종 사용자

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility

고객사 장비

Manufacturer: ZEISS

Equipment: FE-SEM

Model: GeminiSEM 460

장비 스펙

장비상태

장비 설치 및 Turned on/IDLE

진동 측정 장비

Data Physics DAQ

Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

Software: SignalCalc ACE

Accelerometer

PCB Accelerometer

Model: 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200 Hz

Lines: 3200

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

Averaging mode: Exponential, 40

결론

모든 방향에서 진동 스펙을 만족합니다.

측정 데이터

측정 지점상태방향바닥 진동DVIA-ULF1000바닥 진동DVIA-ULF1000
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility DSR C타워 3층
연구실
1. 바닥 진동
2. DVIA-ULF1000
Turned on/IDLE수직VC-B
@ 10 Hz
VC-G
@ 10 Hz
FAILPASS
좌우VC-D
@ 8 Hz
VC-F
@ 8 Hz
PASSPASS
전후VC-E
@ 16 Hz
VC-F
@ 16 Hz
PASSPASS

데이터 및 이미지

수직 VC 곡선

수직 자동 스펙트럼

수직 전달률

좌우 VC 곡선

좌우 자동 스펙트럼

좌우 전달률

전후 VC 곡선

전후 자동 스펙트럼

전후 전달률

참고 자료

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배율 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미량 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자 현미경(SEM/TEM) 등 고정밀 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 최고 정밀 시스템에 적합.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8-80 Hz의 1/3 옥타브 밴드에서, VC-C부터 VC-G는 1-80 Hz에서 측정됩니다.

2. 상세 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 선폭 또는 의료 연구의 입자 크기를 의미합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일01-13-2026
태그
DVIA-ULF Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
ZEISS