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설치 보고서
DVIA-ULF Series
11-11-2025

Zhuzhou Smelter Group ZEISS EVO 10 FE-SEM DVIA-ULFB700 Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
Zhuzhou Smelter Group
ZEISS
EVO 10
FE-SEM
DVIA-ULFB700

작성

Engineer: Chaewon Lee

Tuning date: 25.11.10

Report written date: 25.11.11

개요

DVIA-ULFB700 능동형 진동 절연 플랫폼은 적절하게 설치되어 의도한 대로 작동하고 있습니다.

진동 절연 시스템 정보

모델: DVIA-ULFB700

시리얼 번호: 250804R5

엔지니어

Chaewon Lee DAEIL SYSTEMS

튜닝 날짜

2025년 11월 10일

최종 사용자

Zhuzhou Smelter Group

튜닝 시도 횟수

1차

위치

Zhuzhou

장비

제조사: ZEISS

장비: FE-SEM

모델: EVO 10

장비 상태

The equipment is turned on/IDLE

튜닝 요청

측정 요약

측정 지점상태바닥DVIA-ULFB700
1.Floor
2.DVIA-ULFB700
EVO 10 turned on/IDLE수직VC-E
@ 50 Hz
VC-G
@ 50 Hz
좌우VC-G
@ 20 Hz
VC-G
@ 20 Hz
전후VC-G
@ 16 Hz
VC-G
@ 16 Hz

UI 프로그램을 통해 얻은 측정 데이터

수직 VC 곡선

수직 Autospectrum

수직 전달률

좌우 VC 곡선

좌우 Autospectrum

좌우 전달률

전후 VC 곡선

전후 Autospectrum

전후 전달률

장비 사진

참조

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (μin/s)
세부 크기
μm
작업장 (ISO)명확하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)해당 없음
사무실 (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)해당 없음
주거 지역 (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
수술실 (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자 현미경(SEM/TEM) 포함 고정밀 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일의 E-Beam 리소그래피 등 최고 정밀 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.1.56 (62.5)해당 없음
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.0.78 (31.25)해당 없음

*참고:*

- 8-80 Hz (VC-A/B) 또는 1-80 Hz (VC-C ~ VC-G)에서 1/3 옥타브 밴드로 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 선폭 또는 의료 연구의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일11-11-2025
태그
DVIA-ULF Series
Installation Report
Zhuzhou Smelter Group
ZEISS
EVO 10
FE-SEM
DVIA-ULFB700