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설치 보고서
09-22-2026

한국기계연구원 고진공 챔버 DVIA-P2200 설치 보고서

DVIA-P Series
Installation Report
KIMM
High Vacuum Chamber
EL
DVIA-P2200
250122R1-1

개요

한국기계연구원 L2동 1층 연구실에 DVIA-P2200 설치 후 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

Turn off 상태로 점검 및 진동 측정 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

제진대 정보

모델: DVIA-P2200

시리얼 넘버: 250122R1-1

엔지니어

정성윤, 박규민, 대일시스템

튜닝 날짜

2026년 09월 22일

설치 장소

한국기계연구원 L2동 1층 연구실

End User

한국기계연구원

고객사 장비

제조사: 이엘

장비명: 고진공 챔버

모델: N/A

진동 스펙

N/A

장비 상태

Turn off

진동 측정 장비

Measurement Equipment

하드웨어: B&K Front End Type 3040-A-040

소프트웨어: B&K Pulse Labshop22 Version

Accelerometer

PCB 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200 Hz

Lines: 2400

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

결론

한국기계연구원 L2동 1층 연구실에 설치된 고진공 챔버(제조사: 이엘)용 제진대 DVIA-P2200 (S/N: 250122R1-1)에 대하여 튜닝 및 진동 측정을 수행하였습니다.

배관 개선 및 제어 안정화: 이전 유사 사례에서 에어 배관을 다수 묶어 배치할 경우 특정 측의 압력 편차로 인해 원활한 배기(OUT)가 이루어지지 않아 정상적인 포지션(POS) 제어에 지장을 주던 문제를 사전 예방하고자, 에어 배관을 각각 독립식으로 재연결하여 안정적인 공기압 공급 및 정밀 제어 환경을 구축하였습니다.

진동 측정 결과: Turn-off 상태에서 바닥 진동과 제진대(DVIA-P2200) 작동 후의 진동 수준을 축별로 측정하여 VC Curve로 비교 분석한 결과, 모든 축(수직/좌우/전후)에서 우수한 제진 성능이 확보된 것을 확인하였습니다.

측정 데이터 요약

측정 위치진동 스펙측정 축측정 결과
바닥DVIA-P2200
1. 바닥
2. DVIA-P2200
N/A수직(Z-axis)VC-BVC-E
좌우(X-axis)VC-DVC-E
전후(Y-axis)VC-EVC-E

측정 데이터

수직(Z-axis)

Z-axis — Autospectrum

Z-axis — VC Curves

좌우(X-axis)

X-axis — Autospectrum

X-axis — VC Curves

전후(Y-axis)

Y-axis — Autospectrum

Y-axis — VC Curves

설치 사진

참고자료

아래 표는 IEST-RP-CC012.2 기준의 진동 수준 분류입니다.

기준 곡선설명진폭
µm/s (µin/s)
세부 크기
µm
Workshop (ISO)뚜렷하게 인지되는 진동. 작업장 및 비민감 영역에 적합합니다.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 영역에 적합합니다.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 영역에 적합합니다. 일반적으로 컴퓨터 장비, 병원 회복실, 반도체 프로브 테스트 장비 및 40배 미만 현미경에 적합합니다.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수술실, 100배 현미경 및 기타 저감도 장비에 적합합니다.100 (4,000)25
VC-A대부분의 경우 400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울, 근접 및 투영 정렬기 등에 적합합니다.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합합니다.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 세부 크기까지의 리소그래피 및 검사 장비(중간 감도 전자 현미경 포함)에 적합한 표준입니다. TFT-LCD 스테퍼/스캐너 공정.12.5 (500)1 - 3
VC-D대부분의 경우 많은 전자 현미경(SEM 및 TEM) 및 E-Beam 시스템을 포함한 까다로운 장비에 적합합니다.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E달성하기 어려운 기준입니다. 나노미터 스케일에서 작동하는 장거리, 레이저 기반, 소형 타겟 시스템, E-Beam 리소그래피 시스템 및 특별한 동적 안정성이 필요한 기타 시스템을 포함한 가장 까다로운 민감 시스템에 적합한 것으로 가정합니다.3.12 (125)< 0.1
VC-F매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.1.56 (62.5)N/A
VC-G매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.0.78 (31.3)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8~80Hz, VC-C~VC-G는 1~80Hz의 1/3 옥타브 대역에서 측정됩니다.

2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 경우 폭, 의료 및 제약 연구의 경우 입자(세포) 크기 등을 나타냅니다. 이는 프로브 기술, AFM 및 나노기술과 관련된 이미징에 해당합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일09-22-2026
태그
DVIA-P Series
Installation Report
KIMM
High Vacuum Chamber
EL
DVIA-P2200
250122R1-1