본문으로 바로가기
설치 보고서
DVIA-P Series
06-15-2026

Tier-1 Semiconductor Pyeongtaek P4 3F Line B05 Bruker NM-VI DVIA-P4000 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor
Bruker
NM-VI

개요

점검 배경: Tier-1 Semiconductor 평택사업장 P4 3층 Line B05에 설치된 DVIA-P4000 컨트롤러에 진동(Vibration) 알림이 발생하여, 양산 가동을 앞두고 시스템 안정화를 위한 긴급 점검을 요청받음

조치 결과 및 결론: 두 가지 상부 장비 구동 조건 모두에서 제어 마진을 확보할 수 있도록 Feedback 제어기 재튜닝을 진행함. 전 축에서 고객사 요구 진동 스펙(VC-D)을 안정적으로 만족하도록 조치를 완료함.

제진대

모델: DVIA-P4000

시리얼 넘버: 230207R1

엔지니어

대일시스템 정성윤 연구원

튜닝 날짜

2026년 05월 29일

설치 장소

Tier-1 Semiconductor 평택 P4 3F Line B05

End User

Tier-1 Semiconductor

고객사 장비

Manufacturer: Bruker

Equipment: NM-VI

Model: Photomask Repair

장비 스펙

VC-D

장비상태

장비 설치 및 Turned on

결론

발진 원인 및 조치: 상부 장비의 상태(Loading 후, Unloading 후)에 따라 시스템의 동적 특성이 변화함을 확인함. 상부 장비의 두 조건(Loading 후, Unloading 후) 모두에서 시스템이 안정적으로 구동되도록 Feedback 제어기 재튜닝을 완료함.

성능 검증: 튜닝 후 상부 장비의 구동 조건과 무관하게 발진이 억제되었음을 확인하였으며, 고객사 요구 진동 스펙(VC-D)을 전 축에서 만족함을 확인함.

측정 데이터 요약

측정 장소상태진동 스펙방향측정값요구조건 비교
Tier-1 Semiconductor P4 Line
3F B05
DVIA-P4000(Active On)
Turned onVC-DVerticalVC-E
@ 20 Hz
PASS
Left to RightVC-D
@ 4 Hz
PASS
Front to BackVC-E
@ 1.5 Hz
PASS

데이터 & 이미지

Vertical VC Curves

Vertical Autospectrum

Left to Right VC Curves

Left to Right Autospectrum

Front to Back VC Curves

Front to Back Autospectrum

참고자료

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
Detail Size
μm
Workshop (ISO)Distinctly perceptible vibration. Appropriate to workshops and non-sensitive areas.800 (32,000)N/A
Office (ISO)Perceptible vibration. Appropriate to offices and non-sensitive areas.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)Barely perceptible vibration. Appropriate to sleep areas in most instances.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)Vibration not perceptible. Suitable for surgical suites, microscopes to 100x.100 (4,000)25
VC-AAdequate for optical microscopes to 400x, microbalances, optical balances.50 (2,000)8
VC-BAppropriate for inspection and lithography equipment to 3μm line widths.25 (1,000)3
VC-CAppropriate for optical microscopes to 1000x, lithography equipment to 1μm.12.5 (500)1 - 3
VC-DSuitable for demanding equipment including electron microscopes (SEMs/TEMs).6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-EFor the most demanding systems including E-Beam lithography at nanometer scales.3.12 (125)< 0.1
VC-FFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.1.56 (62.5)N/A
VC-GFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.0.78 (31.25)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8–80 Hz 1/3 옥타브 밴드에서 측정하고, VC-C–G는 1–80 Hz에서 측정합니다.

2. Detail size는 반도체 제조의 라인 폭 또는 의학 연구의 입자 크기를 의미합니다.

이 케이스 스터디 공유하기

케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일06-15-2026
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor
Bruker
NM-VI