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설치 보고서
DVIA-M Series
07-12-2022

Zeiss Gemini SEM360 DVIA-ML1000 Installation Report (220307R1)

DVIA-M Series
Installation Report
Universal Scientific Industrial
USI
Zeiss
Gemini SEM360
SEM
Shanghai
DVIA-ML1000
DVIA-M1000
220307R1

대상 장비

Zeiss Gemini SEM360

설치 장소

Shanghai

비고

Good Performance

End user

Universal Scientific Industrial Co., Ltd.（环旭电子）

보고 정보

Operator: Cheon, Seoung hoon

Date of setup: 22.07.11

Date of reporting: 22.07.12

출장 일정

17.12.27~17.12.29

개요

The DVIA-M1000 active vibration isolation platform is appropriately installed and functioning as intended.

측정 일시

2022.07.11 (Monday)

Operator

DAEIL SYSTEMS, Seounghoon Cheon, Youngha Lee

측정 장소

Shanghai

장비 모델

Zeiss Gemini SEM360

측정 조건 및 결과

측정 결과 요약

시험 조건ZXY
FloorABB
Above ActiveFEF

전 방향에서 양호한 성능.

MB1000 내부 프로그램 성능 측정 결과

수직 VC-curves

좌우 VC-curves

전후 VC-curves

옥타브 밴드 결과

수직 옥타브 밴드 결과

좌우 옥타브 밴드 결과

전후 옥타브 밴드 결과

Reference

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)		세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 체감할 수 있는 진동 수준. 워크숍 및 민감하지 않은 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 수준의 진동. 사무 공간 및 기타 민감하지 않은 환경에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 느껴지지 않는 수준의 진동. 대부분의 수면 공간에 적절.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 감지되지 않는 수준. 외과 수술실, 100배율 이하 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미세 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일07-12-2022
태그
DVIA-M Series
Installation Report
Universal Scientific Industrial
USI
Zeiss
Gemini SEM360
SEM
Shanghai
DVIA-ML1000
DVIA-M1000
220307R1

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