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설치 보고서
DVIA-P Series
08-03-2026

Tier-1 Semiconductor Giheung Bruker AFM NM-VI6 DVIA-P4000 Installation Report (VOC26-132)

DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor
Bruker
AFM
NM-VI6
DVIA-P4000
VOC26-132
200805R3

보고서 정보

보고서: DVIA-P4000 Installation Report, S/N 200805R3 (VOC 26-132, POS 알람)

작성자: 정성윤 박규민 · DAEIL SYSTEMS

설치 날짜: 2026.07.21

보고서 작성일: 2026.08.03

개요

Tier-1 Semiconductor 기흥 V1라인 3층에 DVIA-P4000 설치 후 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

IDLE 상태로 점검 및 진동 측정 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

제진대

모델: DVIA-P4000

시리얼 넘버: 200805R3

엔지니어

정성윤 박규민 · 대일시스템

튜닝 날짜

2026.07.21

설치 장소

SR1동 V라인 3F

End User

Tier-1 Semiconductor

고객사 장비

제조사: Bruker

장비명: AFM

모델: NM-VI6

진동 스펙

주파수 [Hz]스펙 [µm/s RMS]
수평16.25
1006.25
수직16.25
1006.25

장비 상태

IDLE

진동 측정 장비

Measurement Equipment

- 하드웨어: B&K Front End Type 3040-A-040

- 소프트웨어: B&K Pulse Labshop22 Version

Accelerometer

- PCB 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200 Hz

Lines: 2400

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

결론

본 현장 점검 및 재튜닝은 Tier-1 Semiconductor 기흥 사업장 Mask개발팀에 설치된 Bruker 장비(NM-VI6) 하부 제진대의 반복적인 POS 알람 이슈를 해결하고 제어 성능을 최적화하기 위해 진행되었습니다. 현장 여건에 따른 일부 환경적 제약과 상부 장비의 실시간 구동 조건(IDLE 상태) 등 완벽하지 못한 측정 환경 속에서도, 조치 결과 상부 장비의 진동 스펙인 VC-D 기준을 만족시키며 기본적인 진동 제어 안정성을 완벽히 확보했습니다. 특히 이번 재튜닝은 상부 장비 로딩(Loading) 조건에서의 마진 부족 현상을 개선하는 데 초점을 맞추어 진행되었으며, 그 결과 향후 공정 가동 시 발생할 수 있는 진동 리스크를 선제적으로 해소하고 장비의 안정적인 구동 환경을 구축하였습니다.

측정 데이터 요약

측정 위치진동 스펙측정 축측정 결과
바닥DVIA-P4000
1. 바닥
2. DVIA-P4000
진동 스펙 절 참조수직(Z-axis)FAILPASS
좌우(X-axis)PASSPASS
전후(Y-axis)PASSPASS

측정 데이터

수직(Z-axis) VC Curves

좌우(X-axis) VC Curves

전후(Y-axis) VC Curves

참고자료

아래 표는 IEST-RP-CC012.2 기준의 진동 수준 분류입니다.

기준 곡선설명진폭¹
μm/s (μin/s)
세부 크기²
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 인지되는 진동. 작업장 및 비민감 영역에 적합합니다.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 영역에 적합합니다.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 영역에 적합합니다. 일반적으로 컴퓨터 장비, 병원 회복실, 반도체 프로브 테스트 장비 및 40배 미만 현미경에 적합합니다.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수술실, 100배 현미경 및 기타 저감도 장비에 적합합니다.100 (4,000)25
VC-A대부분의 경우 400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울, 근접 및 투영 정렬기 등에 적합합니다.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합합니다.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 세부 크기까지의 리소그래피 및 검사 장비(중간 감도 전자 현미경 포함)에 적합한 표준입니다. TFT-LCD 스테퍼/스캐너 공정.12.5 (500)1-3
VC-D대부분의 경우 많은 전자 현미경(SEM 및 TEM) 및 E-Beam 시스템을 포함한 까다로운 장비에 적합합니다.6.25 (250)0.1-0.3
VC-E달성하기 어려운 기준입니다. 나노미터 스케일에서 작동하는 장거리, 레이저 기반, 소형 타겟 시스템, E-Beam 리소그래피 시스템 및 특별한 동적 안정성이 필요한 기타 시스템을 포함한 가장 까다로운 민감 시스템에 적합한 것으로 가정합니다.3.12 (125)<0.1
VC-F매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.1.56 (62.5)N/A
VC-G매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 대부분의 경우, 특히 클린룸에서 달성하기 어렵습니다. 설계 기준으로 사용하지 않고 평가용으로만 권장됩니다.0.78 (31.3)N/A

참고:

1. 8~80Hz(VC-A 및 VC-B) 또는 1~80Hz(VC-C~VC-G) 주파수에 대한 1/3 옥타브 대역에서 측정됨.

2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 경우 폭, 의료 및 제약 연구의 경우 입자(세포) 크기 등을 나타냅니다. 이는 프로브 기술, AFM 및 나노기술과 관련된 이미징에 해당합니다.

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시리즈DVIA-P Series
작성일08-03-2026
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Bruker
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NM-VI6
DVIA-P4000
VOC26-132
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