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설치 보고서
DVIA-M Series
09-10-2019

Wenzhou Hongfeng Electric Alloy Hitachi SU1510 DVIA-MB1000 (190812R6) Installation Report — 2019.09.10

DVIA-M Series
Installation Report
DVIA-MB1000
Hitachi
SU1510
Wenzhou
190812R6

측정 대상 장비

Hitachi SU1510

설치 장소

F3, Wenzhou Hongfeng electric alloy

비고

Good Performance

END USER

Wenzhou Hongfeng electric alloy

Operator

Choi, Sung Won

설치 일자

19.09.05

보고 일자

19.09.10

출장 일자

17.12.27~17.12.29

개요

액티브 마운팅 이후 진동 환경을 측정하여 장비 사용에 문제가 없음을 확인하였다.

Measurement date: 2019.09.05 (Thursday),

Operator: Daeil System, Manager Sung Won Choi

Place of measurement : F3, Wenzhou Hongfeng electric alloy

Equipment Model: Hitachi SU1510

측정 조건 및 결과

측정 결과 요약

측정 조건ZXY
FloorCCC
Above ActiveFFF

Good omnidirectional performance.

MB1000 내부 프로그램 성능 측정 결과

Z축 (MB1000 내부 프로그램)

X축 (MB1000 내부 프로그램)

Y축 (MB1000 내부 프로그램)

Octave Band Result (BASE: Floor, TOP: Above Active)

Z축 (옥타브 밴드)

X축 (옥타브 밴드)

Y축 (옥타브 밴드)

Reference

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)		세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 체감할 수 있는 진동 수준. 워크숍 및 민감하지 않은 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 수준의 진동. 사무 공간 및 기타 민감하지 않은 환경에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 느껴지지 않는 수준의 진동. 대부분의 수면 공간에 적절.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 감지되지 않는 수준. 외과 수술실, 100배율 이하 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미세 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일09-10-2019
태그
DVIA-M Series
Installation Report
DVIA-MB1000
Hitachi
SU1510
Wenzhou
190812R6

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