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설치 보고서
DVIA-P Series
05-11-2026

Tier-1 Semiconductor Advanced Institute JEOL JBX-8100FS DVIA-P2200 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Advanced Institute
JEOL
JBX-8100FS
DVIA-P2200

개요

삼성종합기술원 B동 1층 클린룸 연구실에 설치된 DVIA-P2200 점검 진행하였습니다.

점검 진행 시 기능상의 문제는 없었지만, 에어 압력이 다소 낮은 상황이었습니다. 장비의 안정적인 운용을 위해 추후 에어 압력을 높이는 것을 권장드립니다.

점검 진행 시 성능이 다소 떨어져 있어 재튜닝 진행하였습니다.

장비 Turned on/IDLE 상태로 점검 및 진동 측정 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-P2200

시리얼 넘버: 1812032R1

엔지니어

대일시스템 필드엔지니어 이채원

튜닝 날짜

2026년 4월 24일

설치 장소

삼성종합기술원 B동 1층 클린룸 연구실

End User

삼성종합기술원

고객사 장비

Manufacturer: JEOL

Equipment: Electron Beam Lithography System

Model: JBX-8100FS

장비 스펙

장비상태

장비 설치 및 Turned on/IDLE

진동 측정 장비

10.1) Data Physics DAQ

-Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

-Software: SignalCalc ACE

10.2) Accelerometer

PCB Accelerometer

Model: 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200 Hz

Lines: 3200

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

Averaging mode: Exponential, 40

결론

모든 방향에서 진동 스펙을 만족합니다.

측정 데이터

측정 장소상태방향진동 스펙GratingDVIA-P2200GratingDVIA-P2200
삼성종합기술원 B동 1층 클린룸 연구실
1. Grating
2. DVIA-P2200
Turned on/IDLEVertical8번 항목 참고19.4 @ 58.2 Hz0.079 @ 58.2 HzFAILPASS
Left to Right14.4 @ 58 Hz0.201 @ 58 HzFAILPASS
Front to Back15.2 @ 17.7 Hz1.7 @ 17.7 HzFAILPASS

데이터&이미지

Vertical VC Curves

Vertical Autospectrum

Vertical Transmissibility

Left to Right VC Curves

Left to Right Autospectrum

Left to Right Transmissibility

Front to Back VC Curves

Front to Back Autospecturm

Front to Back Transmissibility

참고자료

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
디테일 사이즈
μm
Workshop (ISO)명확하게 인지 가능한 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 수면 공간에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 인지되지 않음. 수술실, 최대 100배 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A최대 400배 광학 현미경, 마이크로 밸런스 등에 적합.50 (2,000)8
VC-B최대 3µm 선폭 검사·리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C최대 1000배 광학 현미경, 최대 1µm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-DSEM/TEM 등 고난도 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노 스케일 E-Beam 리소그래피 등 최고 난도 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극저연구 공간용. 설계 기준으로는 비권장.1.56 (62.5)N/A
VC-G극저연구 공간용. 설계 기준으로는 비권장.0.78 (31.25)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8–80 Hz 1/3 옥타브 밴드에서 측정하고, VC-C~VC-G는 1–80 Hz에서 측정합니다.

2. 디테일 사이즈는 반도체 제조의 선폭 또는 의료 연구의 입자 크기를 의미합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일05-11-2026
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Installation Report
Tier-1 Semiconductor Advanced Institute
JEOL
JBX-8100FS
DVIA-P2200