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설치 보고서
DVIA-P Series
05-21-2026

Korea Nano Technology Institute JEOL JBX-8100FS DVIA-P2200 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Korea Nano Technology Institute
JEOL
JBX-8100FS
DVIA-P2200

개요

한국나노기술원에 설치된 DVIA-P2200 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

장비 Turned on/IDLE 상태에서 진동측정 및 튜닝 진행하였습니다.

24.10.29일 튜닝 및 진동측정 시 장비의 Control Unit에서 발생하는 78 Hz의 진동으로 인해 Spec out되는 대역대가 생겼습니다. 이번 튜닝 및 진동측정 시 Control Unit Turned off 상태로 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-P2200

시리얼 넘버: 240705R1

엔지니어

대일시스템 필드엔지니어 이채원, 서종화

측정 날짜

2025년 01월 10일

설치 장소

한국나노기술원 2F 나노 리소/패턴 지원라인

End User

한국나노기술원

장비 상태

장비설치/IDLE

고객사 장비

Manufacturer: JEOL

Equipment: Electron Beam Lithography

Model: JBX-8100FS

진동 스펙

no HWL - V : VC-F, H: VC-G

With HWL - V : VC-E, H: VC-F

진동 측정 장비

10.1) Data Physics DAQ

-Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

-Software: SignalCalc ACE

10.2) Accelerometer

PCB Accelerometer

Model: 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200

Lines: 3200

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

Average Mode: Exponential, 40

결론

모든 방향에서 진동 스펙을 만족합니다.

측정 데이터

측정 장소상태방향장비스펙하부패드DVIA-P2200하부패드DVIA-P2200
나노/리소패턴 지원라인 1.하부패드 2.DVIA-P2200장비 Turned on/IDLEVertical1.13E-05 m/s – 1.70E-06 m/s @ 16 Hz - 100 HzVC-E @ 63 HzVC-G @ 63 HzPASSPASS
Left to Right1.13E-05 m/s – 1.70E-06 m/s @ 16 Hz - 100 HzVC-E @ 20 HzVC-G @ 20 HzPASSPASS
Front to Back1.13E-05 m/s – 1.70E-06 m/s @ 16 Hz - 100 HzVC-E @ 63 HzVC-G @ 63 HzPASSPASS

데이터 및 이미지

Vertical VC Curves

Vertical Autospectrum

Vertical Transmissibility

Left to Right VC Curves

Left to Right Autospectrum

Left to Right Transmissibility

Front to Back VC Curves

Front to Back Autospecturm

Front to Back Transmissibility

장비 사진

참고자료

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배율 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학현미경, 마이크로밸런스, 광학밸런스에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일05-21-2026
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DVIA-P Series
Installation Report
Korea Nano Technology Institute
JEOL
JBX-8100FS
DVIA-P2200