본문으로 바로가기
설치 보고서
DVIA-ML Series
07-15-2026

Biel Crystal Manufactory Limited Raith EBPG5200 Plus E-Beam Lithography DVIA-ML3000S (260406R2-1) Installation Report

DVIA-ML Series
Installation Report
YIMO TECH
Biel Crystal Manufactory Limited
Raith
EBPG5200 Plus
E-Beam Lithography
DVIA-ML3000S
260406R2-1
Huiyang
China

개요

Following the installation of DVIA-ML3000S at Huiyang, tuning and vibration measurement were performed.

Vibration measurement was conducted with the equipment in the IDLE state.

Data is represented in VC Curve format and reference material on the vibration level is provided.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-ML3000S

시리얼 넘버: 260406R2-1

담당 엔지니어

Gyumin Park · DAEIL SYSTEMS

튜닝 일자

2026.07.15

보고서 작성일

2026.07.20

Customer

YIMO TECH

End User

Biel Crystal Manufactory Limited

튜닝 횟수

1st

설치 위치

Huiyang

장비

제조사: Raith

장비: E-Beam Lithography

모델: EBPG5200 Plus

진동 사양

Horizontal

Frequency [Hz]Allowable [µm/s RMS]
18
58
6.36.94
86
107.35
12.59.01
1611.28
2013.82
2516.94
31.519.32
4016.32
5013.94
6311.84
8010
10012.5

Vertical

Frequency [Hz]Allowable [µm/s RMS]
18
58
6.36.94
86
107.35
12.59.01
1611.28
2013.82
2516.94
31.519.32
4016.32
5013.94
6311.84
8010
10012.5

장비 상태

IDLE

Tuning Request

측정 요약

Case 1

Measurement PointVibration SpecificationsAxisResult
FloorDVIA-ML3000S
1.Floor
2.DVIA-ML3000S
See Section 9VerticalPASSPASS
Left to RightPASSPASS
Front to BackPASSPASS

UI 프로그램 측정 데이터

Vertical Autospectrum

Left to Right Autospectrum

Front to Back Autospectrum

Reference

아래 표는 IEST-RP-CC012.2를 기준으로 진동 수준을 분류한 것입니다.

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
상세 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 수면 공간에 적합. 컴퓨터 장비, 병원 회복실, 반도체 프로브 테스트 장비, 40배 미만 현미경에 일반적으로 적절.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 감지되지 않는 수준. 수술실, 100배율 현미경 및 기타 저민감 장비에 대부분 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미량 저울, 광학 저울, 프록시미티·프로젝션 얼라이너 등에 대부분 적절.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 상세 크기의 리소그래피·검사 장비(중간 민감도 전자 현미경 포함)에 적합한 기준. TFT-LCD 스테퍼/스캐너 공정.12.5 (500)1-3
VC-D다수의 전자 현미경(SEM·TEM) 및 E-Beam 시스템을 포함한 고정밀 장비에 대부분 적합.6.25 (250)0.1-0.3
VC-E달성하기 어려운 기준. 장거리 광경로, 레이저 기반, 소형 타깃 시스템, 나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 극도의 동적 안정성이 필요한 최고 민감 시스템에 적절한 것으로 간주.3.12 (125)<0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간에 적합. 특히 클린룸에서는 대부분 달성이 어려움. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간에 적합. 특히 클린룸에서는 대부분 달성이 어려움. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장.0.78 (31.3)N/A

참고:

1. VC-A·VC-B는 8-80 Hz, VC-C부터 VC-G는 1-80 Hz의 1/3 옥타브 밴드에서 측정한 값입니다.

2. 상세 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서는 선폭을, 의료·제약 연구에서는 입자(세포) 크기를 의미하며, 프로브 기술·AFM·나노기술 관련 이미징에 해당합니다.

이 표의 정보는 참고용입니다. 대부분의 경우 장비와 공정의 응용 및 진동 요구사항에 대해 잘 아는 전문가의 조언을 구할 것을 권장합니다.

이 케이스 스터디 공유하기

케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ML Series
작성일07-15-2026
태그
DVIA-ML Series
Installation Report
YIMO TECH
Biel Crystal Manufactory Limited
Raith
EBPG5200 Plus
E-Beam Lithography
DVIA-ML3000S
260406R2-1
Huiyang
China