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설치 보고서
DVIA-ULF Series
04-10-2026

East China University of Science and Technology ZEISS Sigma 360 DVIA-ULF700 Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
ZEISS
Sigma 360
ECUST

개요

The DVIA-ULF700 active vibration isolation platform is appropriately installed and functioning as intended.

진동 절연 시스템 정보

모델: DVIA-ULF700

시리얼 번호: 251224R5

엔지니어

Chaewon Lee DAEIL SYSTEMS

Report written date: April 13, 2026

튜닝 날짜

April 10, 2026

최종 사용자

East China University of Science and Technology

튜닝 시도 횟수

1st

위치

Shanghai, China

장비

Manufacturer: ZEISS

Equipment: FE-SEM

Model: Sigma 360

진동 사양

장비 상태

The equipment is turned on/IDLE

튜닝 요청

측정 요약

측정 지점상태진동 사양바닥 (RMS, mm/s²)DVIA-ULF700 (RMS, mm/s²)바닥DVIA-ULF700
1. Floor
2. DVIA-ULF700
Equipment is Turned on/IDLEVerticalRefer to item 90.224 @ 24.75 Hz0.00176 @ 24.75 HzFAILPASS
Left to Right0.103 @ 2.52 Hz0.0092 @ 2.52 HzFAILPASS
Front to Back0.146 @ 2.35 Hz0.01 @ 2.35 HzFAILPASS

UI 프로그램을 통해 얻은 측정 데이터

수직 VC 곡선

수직 Autospectrum

수직 전달률

좌우 VC 곡선

좌우 Autospectrum

좌우 전달률

전후 VC 곡선

전후 Autospectrum

전후 전달률

장비 사진

1

2

참조

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
작업장 (ISO)명확하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)해당 없음
사무실 (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)해당 없음
주거 지역 (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
수술실 (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자 현미경(SEM/TEM) 포함 고정밀 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일의 E-Beam 리소그래피 등 최고 정밀 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.1.56 (62.5)해당 없음
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.0.78 (31.25)해당 없음

*참고:*

- 8-80 Hz (VC-A/B) 또는 1-80 Hz (VC-C ~ VC-G)에서 1/3 옥타브 밴드로 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 선폭 또는 의료 연구의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일04-10-2026
태그
DVIA-ULF Series
Installation Report
ZEISS
Sigma 360
ECUST