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설치 보고서
DVIA-P Series
01-12-2026

Seoul National University JEOL JBX-8100FS DVIA-P4000 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Seoul National University
JEOL
JBX-8100FS

개요

서울대학교 반도체공동연구소 클린룸 C2-4에 설치된 DVIA-P4000 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

장비 Turned off 상태로 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-P4000

시리얼 넘버: 250808R1

엔지니어

대일시스템 필드엔지니어 이채원

점검 날짜

2026년 01월 12일

설치 장소

N/A

End User

서울대학교

고객사 장비

Manufacturer: JEOL

Equipment: Electron Beam Lithography

Model: JBX-8100FS

장비 스펙

장비 상태

장비 설치 및 Turned off

진동 측정 장비

10.1) Data Physics DAQ

-Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

-Software: SignalCalc ACE

10.2) Accelerometer

- PCB Accelerometer

- Model: 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 200 Hz

Lines: 3200

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

Averaging mode: Exponential, 40

결론

모든 방향에서 진동스펙을 만족합니다.

측정 데이터

측정 장소상태방향측정값측정값결과결과
측정 장소상태방향FloorDVIA-P4000FloorDVIA-P4000
서울대학교 반도체공동연구소
클린룸 C2-4
1. Floor
2. DVIA-P4000
Turned offVerticalVC-B
@ 63 Hz
VC-E
@ 63 Hz
FAILPASS
Left to RightVC-D
@ 63 Hz
VC-G
@ 63 Hz
FAILPASS
Front to BackVC-D
@ 63 Hz
VC-G
@ 63 Hz
PASSPASS

데이터 및 이미지

Vertical VC Curves

Vertical Autospectrum

Vertical Transmissibility

Left to Right VC Curves

Left to Right Autospectrum

Left to Right Transmissibility

Front to Back VC Curves

Front to Back Autospecturm

Front to Back Transmissibility

참고자료

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
Detail Size
μm
Workshop (ISO)Distinctly perceptible vibration. Appropriate to workshops and non-sensitive areas.800 (32,000)N/A
Office (ISO)Perceptible vibration. Appropriate to offices and non-sensitive areas.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)Barely perceptible vibration. Appropriate to sleep areas in most instances.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)Vibration not perceptible. Suitable for surgical suites, microscopes to 100x.100 (4,000)25
VC-AAdequate for optical microscopes to 400x, microbalances, optical balances.50 (2,000)8
VC-BAppropriate for inspection and lithography equipment to 3μm line widths.25 (1,000)3
VC-CAppropriate for optical microscopes to 1000x, lithography equipment to 1μm.12.5 (500)1 - 3
VC-DSuitable for demanding equipment including electron microscopes (SEMs/TEMs).6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-EFor the most demanding systems including E-Beam lithography at nanometer scales.3.12 (125)< 0.1
VC-FFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.1.56 (62.5)N/A
VC-GFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.0.78 (31.25)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8–80 Hz의 1/3 옥타브 대역에서, VC-C부터 VC-G는 1–80 Hz에서 측정합니다.

2. Detail size는 반도체 제조의 라인 폭 또는 의학 연구의 입자 크기를 가리킵니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일01-12-2026
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Seoul National University
JEOL
JBX-8100FS