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설치 보고서
DVIA-P Series
09-17-2025

Techsand Photomask CLB ZEISS MeRiT MG neo DVIA-P2200 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Techsand Photomask
ZEISS
MeRiT MG neo

개요

테크샌드포토마스크 CLB에 설치된 DVIA-P2200의 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

장비 설치 전 진동스펙을 만족하는지 확인하기 위해 튜닝 및 진동 측정을 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-P2200

시리얼 넘버:250626R1

엔지니어

대일시스템 필드엔지니어 이채원

측정 날짜

2025년 09월 17일

최종 사용자

테크샌드포토마스크

설치 장소

테크샌드포토마스크

장비 상태

장비 미설치

장비 정보

Manufacturer: ZEISS

Equipment: X-ray Microscope

Model: MeRiT® MG neo

진동 측정 장비

9.1) Data Physics DAQ

-Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

-Software: SignalCalc ACE

9.2) Accelerometer

PCB Accelerometer

Model: 393B05

진동 측정 Setup

F Span: 1250 Hz

Lines: 3200

Engineering Units: m/s

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

Averaging mode: Exponential, 40

장비 진동 스펙

결론

모든 방향에서 Spec을 만족합니다.

Vertical 방향 200–250 Hz 구간에서 제진대 상부 진동이 바닥 진동보다 다소 크게 측정되었습니다. 이는 무부하 상태(장비 미설치 상태)에서 상부패드 및 상판의 구조적 고유진동( Flexible Mode )이 나타난 것으로 판단됩니다. 실제 장비가 상부에 설치되면 질량 부하에 의해 해당 고유진동은 감쇠되며, 제진 성능에는 영향을 주지 않을 것으로 예상됩니다.

측정 데이터

측정 장소상태진동 스펙방향측정값결과
바닥진동DVIA-P2200바닥진동DVIA-P2200
테크샌드포토마스크 CLB
1. 바닥진동
2. DVIA-P2200
장비 미설치VC-DVerticalVC-D
@ 50 Hz
VC-G
@ 1 Hz
PASSPASS
Left to RightVC-D
@ 16 Hz
VC-F
@ 16 Hz
PASSPASS
Front to BackVC-C
@ 16 Hz
VC-G
@ 16 Hz
FAILPASS

데이터&이미지

Vertical VC Curves

Vertical Transmissibility

Left to Right VC Curves

Left to Right Transmissibility

Front to Back VC Curves

Front to Back Transmissibility

참고자료

VC / ISO 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)Distinctly perceptible vibration. Appropriate to workshops and non-sensitive areas.800 (32,000)N/A
Office (ISO)Perceptible vibration. Appropriate to offices and non-sensitive areas.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)Barely perceptible vibration. Appropriate to sleep areas in most instances.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)Vibration not perceptible. Suitable for surgical suites, microscopes to 100x.100 (4,000)25
VC-AAdequate for optical microscopes to 400x, microbalances, optical balances.50 (2,000)8
VC-BAppropriate for inspection and lithography equipment to 3μm line widths.25 (1,000)3
VC-CAppropriate for optical microscopes to 1000x, lithography equipment to 1μm.12.5 (500)1 - 3
VC-DSuitable for demanding equipment including electron microscopes (SEMs/TEMs).6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-EFor the most demanding systems including E-Beam lithography at nanometer scales.3.12 (125)< 0.1
VC-FFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.1.56 (62.5)N/A
VC-GFor extremely quiet research spaces. Not recommended as design criterion.0.78 (31.25)N/A

참고:

1. VC-A/B는 8-80 Hz의 1/3 옥타브 대역에서 측정하고, VC-C부터 VC-G는 1-80 Hz에서 측정합니다.

2. 세부 크기는 전자제품 제조의 선폭 또는 의학 연구의 입자 크기를 의미합니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일09-17-2025
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Techsand Photomask
ZEISS
MeRiT MG neo