Korea Nanotechnology Institute JEOL JBX-8100FS DVIA-P2200 Installation Report
Contents
개요
한국나노기술원에 DVIA-P2200의 장비 안착 후 SET-UP을 진행했습니다.
장비 Turned on 상태에서 진동측정 및 튜닝 진행하였습니다.
장비에 연결된 케이블이 제진대 상부와 맞닿고 있었습니다. 이는 DVIA-P2200 성능에 영향을 줄 수 있습니다.
JBX-8100FS 주변 장비에서 진동이 발생하고 있었습니다. 이는 DVIA-P2200 성능에 영향을 줄 수 있습니다.
DVIA-P2200을 노트북과 연결하여 UI software를 통해 피드백과 피드포워드 튜닝 및 Data Physics 측정 장비를 이용하여 진동측정으로 성능 점검을 진행했습니다.
Data를 VC-Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.
진동 제어 시스템 정보
모델: DVIA-P2200
일련 번호: 240304R5
엔지니어
대일시스템 이채원 사원
측정 날짜
24.07.01
설치 날짜
2024년 07월 02일
설치 장소
한국나노기술원 2F 나노 리소/패턴 지원라인, 광교
최종 사용자
한국나노기술원
고객사 장비
Manufacturer: JEOL
Equipment: Electron Beam Lithography
Model: JBX-8100FS
장비 진동 스펙
장비 상태
Equipment Installed/Turn on
튜닝 횟수
2회차
진동 측정 장비
Data Physics DAQ
Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436
Software: SignalCalc ACE
Accelerometer
PCB Accelerometer
Model: 393B05
진동 측정 Setup
F Span: 200
Lines: 3200
Window: Hanning
Averaging: FFT Spectrum Averaging
Engineering Units: m/s
결론
진동 측정 결과 Vertical, Left to Right, Front to Back 모두 40 Hz와 80 Hz 부근에서 진동이 상승합니다. 이는 장비 진동과 주변 장비 진동의 영향으로 추측됩니다.
모든 대역대에서 장비진동 스펙을 만족합니다.
측정 데이터
| 측정 장소 | 방향 | 장비 스펙 | 측정 데이터 | 측정 결과 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 바닥 | DVIA-P2200 | 바닥 | DVIA-P2200 | |||
| 나노 리소/패턴 지원라인 | Vertical | 3.25E-05 m/s - 5.66E-06 @ 1 Hz - 2 Hz | 1.10E-06 m/s @ 1 Hz | 5.76E-07 m/s @ 1 Hz | VC-F | VC-G |
| 5.66E-06m/s - 3.18E-06 @ 2 Hz – 3.5 Hz | 4.88E-07 m/s @ 2.5 Hz | 1.74E-07 m/s @ 2.5 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 3.18E-06 m/s - 6.36E-06 @ 3.5 Hz - 9 Hz | 3.23E-07 m/s @ 8 Hz | 1.21E-07 m/s @ 8 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 6.36E-06 m/s – 2.83E-06 @ 9 Hz - 10 Hz | 4.08E-07 m/s @ 10 Hz | 1.21E-07 m/s @ 10 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 2.83E-06 m/s – 2.40E-06 @ 10 Hz – 12.5 Hz | 4.15E-07 m/s @ 12.5 Hz | 1.33E-07 m/s @ 12.5 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 2.40E-06 m/s – 1.13E-05 @ 12.5 Hz - 16 Hz | 3.74E-07 m/s @ 16 Hz | 3.50E-07 m/s @ 16 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 1.13E-05 m/s – 1.70E-06 @ 16 Hz - 100 Hz | 5.63E-07 m/s @ 63 Hz | 2.43E-07 m/s @ 63 Hz | VC-G | VC-E | ||
| Left to Right | 3.25E-05 m/s - 5.66E-06 @ 1 Hz - 2 Hz | 1.10E-06 m/s @ 1 Hz | 4.67E-07 m/s @ 1 Hz | VC-F | VC-G | |
| 5.66E-06m/s - 3.18E-06 @ 2 Hz – 3.5 Hz | 4.35E-07 m/s @ 3.15 Hz | 1.28E-07 m/s @ 3.15 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 3.18E-06 m/s - 6.36E-06 @ 3.5 Hz - 9 Hz | 4.55E-07 m/s @ 8 Hz | 1.25E-07 m/s @ 8 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 6.36E-06 m/s – 2.83E-06 @ 9 Hz - 10 Hz | 3.64E-07 m/s @ 10 Hz | 1.62E-07 m/s @ 10 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 2.83E-06 m/s – 2.40E-06 @ 10 Hz – 12.5 Hz | 4.59E-07 m/s @ 12.5 Hz | 2.38E-07 m/s @ 12.5 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 2.40E-06 m/s – 1.13E-05 @ 12.5 Hz - 16 Hz | 9.67E-07m/s @ 16 Hz | 3.19E-07 m/s @ 16 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 1.13E-05 m/s – 1.70E-06 @ 16 Hz - 100 Hz | 4.25E-07 m/s @ 40 Hz | 2.96E-06 m/s @ 40 Hz | VC-G | VC-E | ||
| Front to Back | 3.25E-05 m/s - 5.66E-06 @ 1 Hz - 2 Hz | 1.10E-06 m/s @ 1 Hz | 5.20E-07 m/s @ 1.6 Hz | VC-F | VC-G | |
| 5.66E-06m/s - 3.18E-06 @ 2 Hz – 3.5 Hz | 5.91E-07 m/s @ 2 Hz | 2.20E-07 m/s @ 2 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 3.18E-06 m/s - 6.36E-06 @ 3.5 Hz - 9 Hz | 8.44E-07 m/s @ 6.3 Hz | 1.62E-07 m/s @ 6.3 Hz | VC-F | VC-G | ||
| 6.36E-06 m/s – 2.83E-06 @ 9 Hz - 10 Hz | 5.94E-07 m/s @ 10 Hz | 1.84E-07 m/s @ 10 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 2.83E-06 m/s – 2.40E-06 @ 10 Hz – 12.5 Hz | 9.08E-07 m/s @ 12.5 Hz | 2.88E-07 m/s @ 12.5 Hz | VC-F | VC-G | ||
| 2.40E-06 m/s – 1.13E-05 @ 12.5 Hz - 16 Hz | 7.50E-07 m/s @ 16 Hz | 3.42E-07 m/s @ 16 Hz | VC-G | VC-G | ||
| 1.13E-05 m/s – 1.70E-06 @ 16 Hz - 100 Hz | 3.27E-07 m/s @ 80 Hz | 1.67E-06 m/s @ 80 Hz | VC-G | VC-E | ||
데이터 및 이미지
Vertical VC Curves
Vertical Narrowband
Vertical Transmissibility
Left to Right VC Curves
Left to Right Narrowband
Left to Right Transmissibility
Front to Back VC Curves
Front to Back Narrowband
Front to Back Transmissibility
참고자료
일반 진동 기준
참고:
- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.
- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.
