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설치 보고서
DVIA-P Series
06-25-2026

Korea Institute of Science and Technology JEOL JBX-A9 E-Beam Lithography DVIA-P4000 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Korea Institute of Science and Technology
JEOL
E-Beam Lithography
JBX-A9
DVIA-P4000
231101R8

개요

한국과학기술연구원(KIST) L3동 1F Line에 설치된 DVIA-P4000 점검 후 튜닝 및 진동측정을 진행하였습니다.

Turned On, IDLE 상태로 점검 및 진동 측정을 진행하였습니다.

Data를 VC Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

제진대 정보

모델: DVIA-P4000

시리얼 넘버: 231101R8

엔지니어

이도윤 책임, 대일시스템

정성윤 연구원, 대일시스템

튜닝 날짜

2026년 5월 22일

설치 장소

L3동 1F Line

End User

한국과학기술연구원(KIST)

고객사 장비

제조사: JEOL

장비명: E-Beam Lithography

모델: JBX-A9 (1825 x 1565 mm, 4500 kg)

결론

최초 설치(Set-up) 당시 레귤레이터 공급 압력은 5.6 bar로 설정되어 있었으나, 현장 방문 시에는 4.6 bar까지 저하되어 있었으며 POS Alarm이 발생하고 있었습니다. 공급 압력을 5.0 bar로 재조정하여 POS Alarm은 해소되었으나, 현장의 공압 공급이 불안정한 상태로 확인되어 성능 위주로 최적화할 경우 동일한 문제가 재발할 가능성이 높은 것으로 판단되었습니다. 또한 진동 측정 결과 장비의 요구 진동 사양을 충분히 만족하고 있었으므로, 최대 성능보다는 장기적인 운용 안정성을 중점으로 시스템 튜닝을 수행하였습니다.

진동 스펙

주파수 [Hz]스펙 [µm/s RMS]
0.51000
1470
280
3.545
990
1040
1433
17160
10025

진동 스펙 그래프

장비 상태

Turned On, IDLE

측정 장비

Measurement Equipment

- 하드웨어: B&K Front End Type 3040-A-040

- 소프트웨어: B&K Pulse Labshop 22 Version

Accelerometer: 393B05

측정 Set-up

F Span: 200 Hz

Lines: 3200

Engineering Units: m/s^2

Window: Hanning

Averaging: FFT Spectrum Averaging

측정 데이터 요약

측정 위치진동 스펙측정 축바닥(Floor)DVIA-P4000
1. 바닥
2. DVIA-P4000
진동 스펙 참조수직(Z-axis)PASSPASS
좌우(X-axis)PASSPASS
전후(Y-axis)PASSPASS

측정 데이터

수직(Z-axis) Autospectrum

좌우(X-axis) Autospectrum

전후(Y-axis) Autospectrum

참고자료

아래 표는 IEST-RP-CC012.2 기준의 진동 수준 분류입니다.

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 인지되는 진동. 작업장 및 비민감 영역에 적합합니다.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 영역에 적합합니다.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 인지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 영역에 적합합니다.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)인지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경 및 기타 저감도 장비에 적합합니다.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울, 근접 및 투영 정렬기 등에 적합합니다.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭까지의 검사 및 리소그래피 장비(스테퍼 포함)에 적합합니다.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 세부 크기까지의 리소그래피 및 검사 장비에 적합한 표준입니다.12.5 (500)1 - 3
VC-D많은 전자 현미경(SEM 및 TEM) 및 E-Beam 시스템을 포함한 까다로운 장비에 적합합니다.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일에서 작동하는 레이저 기반, E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 민감 시스템에 적합합니다.3.12 (125)< 0.1
VC-F매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장됩니다.1.56 (62.5)N/A
VC-G매우 조용한 연구 공간에 적합합니다. 설계 기준이 아닌 평가용으로만 권장됩니다.0.78 (31.3)N/A

비고:

1. VC-A~B: 8~80 Hz, VC-C~G: 1~80 Hz 주파수에 대한 1/3 옥타브 대역에서 측정됨.

2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 경우 선폭, 의료 및 제약 연구의 경우 입자(세포) 크기를 나타냅니다.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일06-25-2026
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Korea Institute of Science and Technology
JEOL
E-Beam Lithography
JBX-A9
DVIA-P4000
231101R8