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설치 보고서
DVIA-P Series
09-26-2024

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility Pyeongtaek P4 Bruker nm-VI DVIA-P4000 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
Bruker
nm-VI

개요

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility 평택사업장 P4 3층 라인에 설치된 DVIA-P4000 튜닝 및 진동측정 진행했습니다.

튜닝 전 에어배관 연결 작업을 진행했습니다.

장비 안착 전 튜닝 및 진동측정 진행하였습니다.

DVIA-P4000을 노트북과 연결하여 UI software을 통해 피드백과 피드포워드 튜닝 및 Data Physics 측정장비를 이용하여 진동측정으로 성능점검을 진행했습니다.

Data를 VC-Curve로 표기 후 진동 수준에 대한 Reference 자료를 제공합니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-P4000

시리얼 넘버: 230926R1

엔지니어

대일시스템 이채원

튜닝 날짜

2024년 09월 26일

설치 장소

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility 평택 P4 3층 라인

고객사 장비

Manufacturer: Bruker

Equipment: nm-VI

Model: Photomask repair

장비 진동 스펙

VC-D

장비 상태

Equipment is uninstalled

튜닝 횟수

1회차

진동 측정 장비

Brüel & Kjær LAN-XI DAQ Type 3050

Hardware: B&K Front End Type 3050-A-040

Software: B&K Pulse Labshop 22 Version

Accelerometer

PCB Accelerometer

Model: 393B05

진동 측정 Setup

Bandwidth: 200 Hz

Lines: 800

Averaging: Spectrum Averaging

Engineering Units: m/s^2

Window: Hanning

Overlap: Max

결론

모든 방향에서 진동 스펙을 만족합니다.

측정 데이터

측정 장소상태방향진동 스펙측정 값결과
하부패드DVIA-P4000하부패드DVIA-P4000
FAB
1. 하부패드
2. DVIA-P4000
Equipment is
uninstalled.
Vertical6.25E-06 m/s
(VC-D)
2.59E-06 m/s
@ 31.5 Hz
2.28E-07 m/s
@ 31.5 Hz
PASSPASS
Left to Right6.25E-06 m/s
(VC-D)
8.45E-06 m/s
@ 80 Hz
1.85E-07 m/s
@ 80 Hz
FAILPASS
Front to Back6.25E-06 m/s
(VC-D)
5.33E-06 m/s
@ 50 Hz
1.94E-07 m/s
@ 5 Hz
PASSPASS

데이터 및 이미지

Vertical VC Curves

Left to Right VC Curves

Front to Back VC Curves

참고자료

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배율 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학현미경, 마이크로밸런스, 광학밸런스에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일09-26-2024
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
Bruker
nm-VI