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설치 보고서
DVIA-M Series
10-04-2022

Zeiss Sigma300 DVIA-M1000 Installation Report (XINSTEEL / Xinyu, 220812R3, 2022)

DVIA-M Series
Installation Report
DVIA-M1000
Zeiss
Sigma300
XINSTEEL
Xinyu
220812R3

End user (표지)

XINSTEEL

플랫폼 제목

(M1000_ 220812R3 Set up)

설치·셋업 사진

대상 장비

Zeiss Sigma300

설치 장소

Xinyu

비고

Good Performance

End user (표)

XINSTEEL

Operator

Yu, Ho Sang

설치일

22.09.14

보고서 작성일

22.10.04

출장 일정

17.12.27~17.12.29

개요

The DVIA-M1000 active vibration isolation platform is appropriately installed and functioning as intended.

측정일

2022.09.14 (Wednesday)

측정 Operator

DAEIL SYSTEMS, Hosang Yu

측정 장소

Xinyu

장비 모델

Zeiss Sigma300

측정 조건 및 결과

측정 결과 요약

Test ConditionZXY
FloorCBC
Above ActiveGGE

Good omnidirectional performance.

MB1000 internal program performance measurement result

Z axis

X axis

Y axis

Octave Band Result

Z axis

X axis

Y axis

Reference

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 체감할 수 있는 진동 수준. 워크숍 및 민감하지 않은 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)인지 가능한 수준의 진동. 사무 공간 및 기타 민감하지 않은 환경에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 느껴지지 않는 수준의 진동. 대부분의 수면 공간에 적절.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)진동이 감지되지 않는 수준. 외과 수술실, 100배율 이하 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학 현미경, 미세 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일 E-Beam 리소그래피 등 가장 까다로운 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.1.56 (62.5)N/A
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로는 권장되지 않음.0.78 (31.25)N/A

참고:

- VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-M Series
작성일10-04-2022
태그
DVIA-M Series
Installation Report
DVIA-M1000
Zeiss
Sigma300
XINSTEEL
Xinyu
220812R3