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설치 보고서
DVIA-ULF Series
06-09-2023

ARCHE Semilab AFM-2000 DVIA-UB350 Installation Report

DVIA-ULF Series
Installation Report
Semilab
ARCHE
AFM

Prepared for

SEMILAB

개요

DVIA-UB350 능동형 진동 절연 플랫폼이 적절하게 설치되어 의도한 대로 작동하고 있습니다.

시스템 정보

모델: DVIA-UB350

시리얼 번호: 220621R1

엔지니어: Youngha Lee, DAEIL SYSTEMS

튜닝 날짜: 2023년 6월 8일

보고서 작성일: 2023년 6월 9일

출장 일정: 2017년 12월 27일~12월 29일

위치: ARCHE, 경기도 화성시 병점구 안녕길 147

장비: AFM-2000

진동 측정 결과 요약

평상시 진동 측정

측정 지점Z축 (수직) 1–10 HzZ축 (수직) 12.5–80 HzX축 (좌우) 1–10 HzX축 (좌우) 12.5–80 HzY축 (전후) 1–10 HzY축 (전후) 10–80 Hz
바닥CCFFFF
Active (DVIA-UB350)GGGGGG

주변 진동(C/R 문 여닫음 발생 시)

측정 지점Z축 (수직) 1–10 HzZ축 (수직) 12.5–80 HzX축 (좌우) 1–10 HzX축 (좌우) 12.5–80 HzY축 (전후) 1–10 HzY축 (전후) 10–80 Hz
바닥EDFFEE
Active (DVIA-UB350)FFEGFG

데이터 및 이미지

Z축 (수직) 전달률

Z축 (수직) VC 곡선(평상시)

Z축 (수직) VC 곡선 (C/R 문 여닫음 진동 부여)

문 여닫음을 통해 주변 진동원을 발생할 때 제진대 상판의 저주파 진동이 증가했지만 VC-E 이내의 진동 수준이다.

바닥의 진동은 증가하지 않고 상판의 진동만 증가했으므로, Enclosure에 가해지는 진동이 제진대 상판을 간섭하여 진동이 증가하는 것으로 추측된다.

X축 (좌우) 전달률

X축 (좌우) VC 곡선(평상시)

X축 (좌우) VC 곡선 (C/R 문 여닫음 진동 부여)

문 여닫음을 통해 주변 진동원을 발생할 때 제진대 상판의 1Hz~7Hz 진동이 증가했지만 VC-E 이내의 진동 수준이다.

Z축의 VC-Curve 그래프와 마찬가지로 바닥의 진동은 증가하지 않고 상판의 진동만 증가했으므로, Enclosure에 가해지는 진동이 제진대 상판을 간섭하여 진동이 증가하는 것으로 추측된다.

Y축 (전후) 전달률

Y축 (전후) VC 곡선(평상시)

Y축 (전후) VC 곡선 (C/R 문 여닫음 진동 부여)

문 여닫음을 통해 주변 진동원을 발생할 때 제진대 상판의 1Hz~7Hz 진동이 증가했지만 VC-F 이내의 진동 수준이다.

다른 축들에 비해 주변 진동원에 대한 간섭이 적은 편이다.

장비 설치 사진

어쿠스틱 인클로저 외관 사진

케이블 장력 및 브레드보드 고정(①·② 표기)

설치 개선 사항

위의 사진 ①에 표시된 PC-장비로 연결되는 Cable tension이 강하여 enclosure의 진동이 제진대 상판(장비)에 간섭될 가능성이 있다.

여유길이 확보를 통해 Cable tension을 감소시킬 필요가 있다.

출장 방문 당시 위의 사진 ②에 표시된 브레드 보드에 체결하여 장비 이송 시 장비의 흔들림을 방지하는 고정부가 체결되어 있었음.

enclosure의 진동이 제진대 상판(장비)에 간섭될 가능성이 있기 때문에, 엔지니어에게 요청하여 해당 고정부를 제거하였음.

참조

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
작업장 (ISO)명확하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)해당 없음
사무실 (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)해당 없음
주거 지역 (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
수술실 (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울에 적합.50 (2,000)8
VC-B3μm 선폭의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자 현미경(SEM/TEM) 포함 고정밀 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-E나노미터 스케일의 E-Beam 리소그래피 등 최고 정밀 시스템용.3.12 (125)< 0.1
VC-F극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.1.56 (62.5)해당 없음
VC-G극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.0.78 (31.25)해당 없음

*참고:*

- 8-80 Hz (VC-A/B) 또는 1-80 Hz (VC-C ~ VC-G)에서 1/3 옥타브 밴드로 측정.

- 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조의 선폭 또는 의료 연구의 입자 크기를 의미.

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설치 보고서
시리즈DVIA-ULF Series
작성일06-09-2023
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Semilab
ARCHE
AFM