설치 보고서

DVIA-ULF Series

07-21-2022

GRINM Zeiss EVO15 DVIA-UB700 (220603R1) Installation Report

DVIA-U Series

Installation Report

GRINM

Beijing

Zeiss

EVO15

DVIA-UB700

220603R1

준비 대상

GRINM Resources and Environment Tech. Co., Ltd.（北京有色金属研究院）

작성 정보

Engineer: Youngha Lee Tuning date: 22.07.20 Report written date: 22.07.21	Date of business trip : 17.12.27~17.12.29

개요

The DVIA-UB700 active vibration isolation platform is appropriately installed and functioning as intended.

시스템 정보

Model: DVIA-UB700

Serial Number: 220603R1

Engineer Youngha Lee from DAEIL SYSTEMS

Tuning Date July 20, 2022

Location BEIJING, China

Equipment Zeiss EVO15

진동 결과 요약

측정 지점	Z축 (수직) 1–10 Hz	Z축 (수직) 10–80 Hz	X축 (좌우) 1–10 Hz	X축 (좌우) 10–80 Hz	Y축 (전후) 1–10 Hz	Y축 (전후) 10–80 Hz
Floor	C	B	B	D	B	D
Active	E	C	C	C	C	G

데이터 및 이미지

Z-axis (Vertical) VC curves

Z-axis (Vertical) Transmissibility

X-axis (Left to Right) VC curves

X-axis (Left to Right) Transmissibility

Y-axis (Front to Back) VC curves

Y-axis (Front to Back) Transmissibility

장비 사진

Result Imeage

Active off

Active on

참조

일반 진동 기준

기준 곡선	설명	진폭 μm/s (µin/s)	세부 크기 μm
작업장 (ISO)	명확하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.	800 (32,000)	해당 없음
사무실 (ISO)	감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.	400 (16,000)	해당 없음
주거 지역 (ISO)	거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.	200 (8,000)	75
수술실 (ISO)	감지되지 않는 진동. 수술실, 100배 현미경에 적합.	100 (4,000)	25
VC-A	400배 광학 현미경, 마이크로 저울, 광학 저울에 적합.	50 (2,000)	8
VC-B	3μm 선폭의 검사 및 리소그래피 장비에 적합.	25 (1,000)	3
VC-C	1000배 광학 현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.	12.5 (500)	1 - 3
VC-D	전자 현미경(SEM/TEM) 포함 고정밀 장비에 적합.	6.25 (250)	0.1 - 0.3
VC-E	나노미터 스케일의 E-Beam 리소그래피 등 최고 정밀 시스템용.	3.12 (125)	< 0.1
VC-F	극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.	1.56 (62.5)	해당 없음
VC-G	극도로 조용한 연구 공간용. 설계 기준으로 권장되지 않음.	0.78 (31.25)	해당 없음

*참고:*

- VC-A/B는 8–80 Hz, VC-C~G는 1–80 Hz에서 1/3 옥타브 밴드로 측정한 값입니다.

- 세부 크기는 반도체 제조의 선폭 또는 의학 연구의 입자 크기를 가리킵니다.

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