설치 보고서
DVIA-P Series
01-09-2023
Sungkyunkwan University JEOL JBX-8100FX DVIA-P2200 (220509R3) Installation Report
DVIA-P Series
Installation Report
Sungkyunkwan University
JEOL
JBX-8100FX
DVIA-P2200
Contents
개요
DVIA-P2200 액티브 제진 플랫폼이 적절히 설치되어 의도한 대로 작동함.
시스템 정보
모델: DVIA-P2200
시리얼 넘버: 220509R3
엔지니어
Hosang Yu, Youngha Lee from DAEIL SYSTEMS
Tuning date: 23.01.09
Report written date: 23.01.12
Date of business trip : 17.12.27~17.12.29
튜닝 일자
January 09, 2023
설치 위치
Sungkyunkwan University Research Building
장비
JEOL JBX-8100FX (E-Beam Lithography)
진동 결과 요약
| 측정 지점 | Z축(수직) 1-10 Hz | Z축(수직) 12.5-80 Hz | X축(좌-우) 1-10 Hz | X축(좌-우) 12.5-80 Hz | Y축(전-후) 1-10 Hz | Y축(전-후) 10-80 Hz |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Floor | C | A+ | E | C | F | C |
| Active | E | D | F | D | F | E |
데이터 및 이미지
Z-axis (Vertical) VC curves
X-axis (Left to Right) VC curves
Y-axis (Front to Back) VC curves
참고자료
일반 진동 기준
참고:
1. VC-A/B는 8-80 Hz, VC-C~VC-G는 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.
2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.
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케이스 스터디 정보
카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일01-09-2023
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DVIA-P Series
Installation Report
Sungkyunkwan University
JEOL
JBX-8100FX
DVIA-P2200
