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설치 보고서
DVIA-P Series
02-26-2026

Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility Giheung Tokyo Electron Precio XL DVIA-P4000 Installation Report

DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
Tokyo Electron
Precio XL

개요

- 2층 S1 Line, K2, Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility Giheung 캠퍼스에 설치된 DVIA-PB4000의 진동 측정을 수행했습니다.

- 장비 설치 전에 진동 제어 시스템의 정상 작동을 확인하기 위해 진동 측정을 수행했습니다.

- 데이터는 VC 곡선으로 표시되며, 진동 수준 평가를 위한 참조 자료가 제공됩니다.

진동 제어 시스템 정보

모델: DVIA-PB4000

시리얼 넘버: 251204R2

엔지니어

대일시스템 이채원

진동 기준

VC-E

장비 상태

장비 설치 안 됨

측정 장비

Data Physics DAQ

- Hardware: QUATTRO, Serial Number: 22436

- Software: SignalCalc ACE

Accelerometer: PCB 393B05

측정 설정

- F Span: 200 Hz

- Lines: 3200

- Engineering Units: m/s

- Window: Hanning

- Averaging: FFT Spectrum Averaging

- Averaging mode: Exponential, 40

진동 제어 시스템 체크리스트

No.Inspection ItemAcceptance CriteriaResult
13.1Displacement Sensor SettingZ: 1.0 mm / X, Y: 3.0mmPASS
13.2Float Height2.5 mmPASS
13.3Servo Valve Output1.0 V – 8.0VPASS

Displacement Sensor Setting Image

Float Height Image

Servo Valve Output Image

결론

- 장비 설치 안 된 상태에서 진동 제어 시스템의 정상 작동을 확인하기 위해 진동 측정을 수행했습니다. DVIA-PB4000 모델은 장비 설치 안 된 상태에서 설계된 진동 제어 성능을 완전히 전달하지 않습니다.

- 튜닝 및 측정 결과는 특정 주파수 대역에서 일부 방향에서 진동 기준을 초과했습니다; 그러나 이는 장비 설치 안 된 상태에서 발생하는 현상입니다. 장비 설치 후 재튜닝을 수행하고 정상 작동 조건에서 진동 기준을 충족할 것으로 예상됩니다.

- 이 검사의 목적은 진동 제어 시스템의 작동 상태 및 정상 작동을 확인하는 것이었으므로, 시스템 자체에 문제가 없음이 확인되었습니다.

측정 데이터

측정 지점상태측정 데이터결과
S1 Line, K2, Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility Giheung Campus
1. Floor Vibration
2. DVIA-PB4000
Equipment
not installed
VerticalVC-B
@ 12.5 Hz
VC-E
@ 12.5 Hz
Left to RightVC-D
@ 20 Hz
VC-C
@ 20 Hz
Front to BackVC-B
@ 12.5 Hz
VC-E
@ 12.5 Hz

데이터 및 이미지

수직 VC 곡선

좌우 VC 곡선

전후 VC 곡선

참조

일반 진동 기준

기준 곡선설명진폭
μm/s (µin/s)
세부 크기
μm
Workshop (ISO)뚜렷하게 감지되는 진동. 작업장 및 비민감 구역에 적합.800 (32,000)N/A
Office (ISO)감지 가능한 진동. 사무실 및 비민감 구역에 적합.400 (16,000)N/A
Residential Area (ISO)거의 감지되지 않는 진동. 대부분의 경우 수면 구역에 적합.200 (8,000)75
Operating Theatre (ISO)감지되지 않는 진동. 수술실, 100배율 현미경에 적합.100 (4,000)25
VC-A400배율 광학현미경, 마이크로밸런스, 광학밸런스에 적합.50 (2,000)8
VC-B3µm 선폭 검사 및 리소그래피 장비에 적합.25 (1,000)3
VC-C1000배율 광학현미경, 1μm 리소그래피 장비에 적합.12.5 (500)1 - 3
VC-D전자현미경(SEM/TEM) 등 까다로운 장비에 적합.6.25 (250)0.1 - 0.3
VC-EE-Beam lithography, etc. Most difficult system.3.12 (125)< 0.1
VC-FExtremely quiet research area. Not recommended as a design standard.1.56 (62.5)N/A
VC-GExtremely quiet research area. Not recommended as a design standard.0.78 (31.25)N/A

Notes:

1. VC-A/B 측정은 8-80 Hz, VC-C~VC-G 측정은 1-80 Hz 범위의 1/3 옥타브 밴드에서 측정.

2. 세부 크기는 마이크로일렉트로닉스 제조에서의 선폭 또는 의료 연구에서의 입자 크기를 의미.

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케이스 스터디 정보

카테고리
설치 보고서
시리즈DVIA-P Series
작성일02-26-2026
태그
DVIA-P Series
Installation Report
Tier-1 Semiconductor Fabrication Facility
Tokyo Electron
Precio XL